Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)
Die Metallgasabscheidung dient zum einen der Probenpräparation (z.B. für das Rasterelektronenmikroskop) und zum anderen der Oberflächenmodifizierung und Elektrodierung. Es ist möglich, kontrolliert sehr dünne metallische Schichten durch thermisches Verdampfen oder Sputtern auf einem Substrat zu erzeugen und so dessen Eigenschaften zu verändern.
- thermisches Aufdampfen: Gold, Calcium, Aluminium, Silber, Kupfer
- Sputtern: Gold, Palladium, Platin, Nickel, Silber, Kohlenstoff
- PVD in Glove-Box unter Argon-Atmosphäre möglich
